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氧化爐,擴(kuò)散爐,LPCVD設(shè)備廠家LOGO

產(chǎn)品中心

主要產(chǎn)品有：氧化爐，擴(kuò)散爐，LPCVD，HVPE，特氣柜、尾氣處理等半導(dǎo)體氣體處理配套，石墨烯，氫氣爐，熱處理爐等真空熱處理設(shè)備等。

  • 半導(dǎo)體工藝設(shè)備

    半導(dǎo)體工藝設(shè)備

    模塊化、自動(dòng)化可擴(kuò)展、高可靠

    01
  • 特氣&廢氣處理

    特氣&廢氣處理

    處理半導(dǎo)體工藝過程中產(chǎn)生的廢氣,如氯氣、氟化物、氯化物等

    02
  • 真空/氣氛爐系列

    真空/氣氛爐系列

    適用于高性能釤鈷、釹鐵硼等磁性材料的燒結(jié)、退火、擴(kuò)散滲鏑、滲鋱等工藝

    03
  • 工廠自動(dòng)化及升級(jí)改造

    工廠自動(dòng)化及升級(jí)改造

    設(shè)備及工廠生產(chǎn)自動(dòng)化工業(yè)4.0

    04

青島華旗科技有限公司

團(tuán)結(jié) 拼搏 創(chuàng)新 求索

青島華旗科技有限公司為專業(yè)的半導(dǎo)體工藝設(shè)備及先進(jìn)材料專用設(shè)備研發(fā)、制造廠家。我公司制造的半導(dǎo)體工藝設(shè)備覆蓋一、二、三、四代半導(dǎo)體材料-硅、砷化鎵、氮化鎵等，高性能磁性材料真空設(shè)備(釤鈷、釹鐵硼等)同時(shí)承擔(dān)了國(guó)家部分863項(xiàng)目(如半導(dǎo)體白光照明GaN生長(zhǎng)的HVPE設(shè)備等)。

  • 2009年
    成立時(shí)間
    J
  • 8000㎡
    凈化廠房
    C
  • 30年
    研發(fā)經(jīng)驗(yàn)
    M
  • 30+
    專利技術(shù)
    E
  • 1000+
    用戶數(shù)量
    E

產(chǎn)業(yè)新聞

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